更新時(shí)間:2021-11-02
Edmund 閃耀全息衍射光柵比刻劃衍射光柵的雜散光少在整個(gè)全息照相柵上衍射效率都有提高光譜范圍廣
Edmund 閃耀全息衍射光柵
比刻劃衍射光柵的雜散光少
在整個(gè)全息照相柵上衍射效率都有提高
光譜范圍廣
Edmund 閃耀全息衍射光柵
閃耀全息光柵比常規(guī)機(jī)械刻劃光柵的雜散光少,同時(shí)不降低衍射效率。首先,全息照相光柵采用干涉技術(shù)制成;其次采用離子光束蝕刻技術(shù),生產(chǎn)出標(biāo)準(zhǔn)鋸齒設(shè)計(jì)。但是,由于本技術(shù)不需要金剛石工具,因此不會(huì)引起雜散光,可用在需效率高,分辨率高、雜散光少、無鬼影的場(chǎng)合??稍诜止庥?jì)、分光光度計(jì)、單色儀上應(yīng)用。本品鍍鋁膜,在紫外光、可見光和紅外光譜范圍內(nèi)有大的透過率性能。
槽/mm: 600 ±0.5
閃耀波長(zhǎng) (nm): 250 ±25
閃耀角 (°): 4.30
尺寸 (mm): 12.5 x 12.5 ±1.0
有效孔徑 CA(mm):9.5 x 9.5
涂層: Bare Aluminum
構(gòu)造 : Holographic Grating
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm): 250
衍射波前公差:2λ
相對(duì)衍射效率 (%) :>55
基底: Float Glass
表面質(zhì)量: 80-50
厚度 (mm): 3.00 ±0.5
類型: Reflective Diffraction Grating
閃耀全息光柵比常規(guī)機(jī)械刻劃光柵的雜散光少,同時(shí)不降低衍射效率。首先,全息照相光柵采用干涉技術(shù)制成;其次采用離子光束蝕刻技術(shù),生產(chǎn)出標(biāo)準(zhǔn)鋸齒設(shè)計(jì)。但是,由于本技術(shù)不需要金剛石工具,因此不會(huì)引起雜散光,可用在需效率高,分辨率高、雜散光少、無鬼影的場(chǎng)合??稍诜止庥?jì)、分光光度計(jì)、單色儀上應(yīng)用。本品鍍鋁膜,在紫外光、可見光和紅外光譜范圍內(nèi)有大的透過率性能。
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