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高分辨率光譜儀HR2

更新時間:2024-09-26

簡要描述:

高分辨率光譜儀HR2
HR2 光譜儀性能可靠,采集速度快,波長熱穩(wěn)定性好,適用于等離子監(jiān)測,藥物分析等應(yīng)用。其堅固耐用的設(shè)計使 HR2 成為OEM集成的理想之選。

HR2 光譜儀

高速采集和高分辨率

HR2 光譜儀性能可靠,采集速度快,波長熱穩(wěn)定性好,適用于等離子監(jiān)測,藥物分析等應(yīng)用。其堅固耐用的設(shè)計使 HR2 成為OEM集成的理想之選。

高分辨率光譜儀HR2

高分辨率光譜儀HR2


高分辨率光譜儀HR2

HR2 系列


型號波長范圍分辨率(FWHM)刻線密度(線/毫米)閃耀波段
UV-Vis250 – 400 nm0.12 – 1.22 nm1800Holographic
UV-Vis220 – 410 nm0.17 – 1.68 nm1200Holographic
UV-Vis220 – 880 nm0.52 – 5.36 nm400250 nm
UV-Vis220 – 650 nm0.35 – 3.52 nm600300 nm
UV-Vis250 – 700 nm0.44 – 4.44 nm500330 nm
Vis-NIR350 – 800 nm0.35 – 3.52 nm600400 nm
Vis-NIR450 – 530 nm0.08 – 0.77 nm2400Holographic
Vis-NIR400 – 850 nm0.35 – 3.52 nm600500 nm
Vis-NIR450 – 650 nm0.17 – 1.68 nm1200Holographic
Vis-NIR530 – 645 nm0.12 – 1.22 nm1800Holographic
Vis-NIR350 – 1025 nm0.53 – 5.36 nm400400 nm
Vis-NIR520 – 955 nm0.35 – 3.52 nm600750 nm
NIR750 – 1000 nm0.27 – 2.75 nm900500 nm
NIR750 – 900 nm0.16 – 1.68 nm1200750 nm
NIR750 – 1100 nm0.35 – 3.52 nm6001000 nm
Extended-range200 – 1000 nm0.71 – 7.19 nm300200 nm
Extended-range220 – 1100 nm0.71 – 7.19 nm300Composite
Extended-range220 – 1100 nm0.71 – 7.19 nm300500 nm
Slit Options5, 10, 25, 50, 100, 200 µm
積分時間1 μs – 2 s
信噪比(單次掃描@10ms)380:1
信噪比(高速平均模式)25,800:1
接口SMA, TFM-108-02-L-DH Samtec, USB Type-C
尺寸148.8 x 106.4 x 48.2 mm
重量0.9306 kg
溫度(工作)0 °C – 55 °C
溫度(存儲)-30 °C – 70 °C
適合的應(yīng)用
  • 原子發(fā)射線檢測

  • 高速光譜采集

  • LED/激光 特性表征

  • 生物發(fā)酵罐清洗檢測


高分辨率光譜儀HR2

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1)  激光控制:激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

2)  探測器:光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

3)  定位與加工:納米定位系統(tǒng)、微納運(yùn)動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等

4)  光源:半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、

光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

5)  光機(jī)械件:用于光路系統(tǒng)搭建的高品質(zhì)無應(yīng)力光機(jī)械件,如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、

支撐桿、固定底座等等

6)  光學(xué)平臺:主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實(shí)驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、

隔聲綜合解決方案等等

7)  光學(xué)元件:各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、

衰減片、玻片等等

8) 染料:激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等


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